|
10. Photoresists are light-sensitive plastic resin solutions used in the photolithographic manufacture of semiconductor materials. They are universally of two types, positive resists and negative resists, both of which consist of a polymer, photosensitizer, non-aqueous solvent, and various other chemicals.
Фоторезисты представляют собой светочувствительные растворы полимерных смол, используемые в фотолитографическом производстве полупроводниковых материалов. Они подразделяются на два типа: позитивные резисты и негативные резисты, каждый из которых состоит из полимера, фотосенсибилизатора, неводного растворителя и различных других химических веществ. 3707.90 3707.10 and 3707.90 GIRs 1 and 6.
Вот это решение меня смущает. Вроде бы этот товар имеет отношение к фотолитографии, которая является разновидностью плоской печати (см. 8442), а не процессом получения "фотографии" как таковой. Но его, тем не менее, отнесли к фотохимикатам из 3707. Поэтому я и думаю, чем наш состав хуже? В смысле, почему его нельзя отнести к "очистителям" или подобным составам, непосредственно применяемым в получении фотографического изображения на проявленной офсетной пластине?
Я, возможно, не очень корректно выражаюсь, не владея целиком и полностью материалом, но в приведенном мною выше пункте Пояснений: "(6) Очистители для удаления пятен после проявления, закрепления и т.д. (например, алюмокалиевые квасцы)" коррекцию производили тоже после проявки.
|