![]() |
|
|
|
Ответ |
Тема : Печь для пайки в паровой фазе (конденсационная пайка) | Опции темы | Опции просмотра |
Старожил
Регистрация: 05.09.2012
Сообщений: 463
Благодарности:
отдано: 100
получено: 28/27
|
07.10.2014, 14:41
#11
|
![]() |
Ответить с цитированием |
Поблагодарили: |
Гуру
Регистрация: 04.03.2011
Сообщений: 7,722
Благодарности:
отдано: 3,776
получено: 3,824/2,845
|
07.10.2014, 14:51
#12
|
__________________
"В погоне за счастьем иногда нужно просто остановиться и быть счастливым" |
|
![]() |
Ответить с цитированием |
Старожил
Регистрация: 05.09.2012
Сообщений: 463
Благодарности:
отдано: 100
получено: 28/27
|
07.10.2014, 16:14
#13
Другие печи согласно их предназначения (по тех документации)
|
![]() |
Ответить с цитированием |
Старожил
Регистрация: 05.09.2012
Сообщений: 463
Благодарности:
отдано: 100
получено: 28/27
|
07.10.2014, 16:16
#14
|
![]() |
Ответить с цитированием |
Старожил
Регистрация: 05.09.2012
Сообщений: 463
Благодарности:
отдано: 100
получено: 28/27
|
07.10.2014, 16:21
#15
просматриваю инфу в инете - везде пишут для электроники...
у нас сразу будут смотреть на исключения в 8515: д) машины и аппараты для низкотемпературной пайки, высокотемпературной пайки или сварки, используемые исключительно или в основном для сборки полупроводниковых приборов (товарная позиция 8486). |
![]() |
Ответить с цитированием |
Поблагодарили: |
Гуру
Регистрация: 04.03.2011
Сообщений: 7,722
Благодарности:
отдано: 3,776
получено: 3,824/2,845
|
07.10.2014, 18:04
#16
Цитата
( MDEN » )
Очень интересно. Благодарю. Все таки печатные платы с предустановленными компонентами, это не совсем "полупроводниковые були и пластины, полупроводниковые приборы, электронные интегральные схемы и плоские дисплейные панели". Хм ![]() |
|
__________________
"В погоне за счастьем иногда нужно просто остановиться и быть счастливым" |
||
![]() |
Ответить с цитированием |
Старожил
Регистрация: 05.09.2012
Сообщений: 463
Благодарности:
отдано: 100
получено: 28/27
|
08.10.2014, 08:48
#17
8486 20 900 9 3 Оборудование для химического парофазного осаждения полупроводниковых легированных кремниевых пленок из парогазовой (газовой) фазы при атмосферном давлении и температуре от 900 до 12000°С на полупроводниковые пластины для изготовления эпитаксиальных структур кремния для производства интегральных микросхем и кремниевых полупроводниковых дискретных приборов. В состав установки входит основной блок установки (в котором располагаются реакционная кварцевая камера, где происходит процесс осаждения пленок на пластины, находящиеся на графитовом подложкодержателе, который подогревается посредством индукционного нагрева; газовая распределительная система (панель) для подачи газовых смесей в камеру; блок загрузки исходных пластин, включая шлюзовые камеры и роботов-перегрузчиков; элементы системы индукционного нагрева); низкочастотный генератор для осуществления подачи мощности для индукционного нагрева графитового подложкодержателя; барботер (устройство для перевода сжиженных реагентов в газообразную форму перед их подачей в реакционную камеру); скруббер (устройство для нейтрализации газообразных продуктов химической реакции из камеры установки перед их утилизацией) и система управления установкой на базе персонального компьютера и предустановленного программного обеспечения.
|
![]() |
Ответить с цитированием |
Старожил
Регистрация: 05.09.2012
Сообщений: 463
Благодарности:
отдано: 100
получено: 28/27
|
08.10.2014, 09:44
#18
Цитата
( Boggart » )
б) "схемы электронные интегральные": i) монолитные интегральные схемы, в которых элементы схемы (диоды, транзисторы, резисторы, конденсаторы, индуктивности и т.д.) выполняются в массе (главным образом) и на поверхности полупроводника или сложного полупроводникового материала (например, легированного кремния, арсенида галлия, силикогермания, фосфида индия) и неотделимо связаны; ii) гибридные интегральные схемы, в которых пассивные элементы (резисторы, конденсаторы, индуктивности и т.д.), выполненные с помощью процессов тонко- или толстопленочной технологии, и активные элементы (диоды, транзисторы, монолитные интегральные схемы и т.д.), полученные с помощью процессов полупроводниковой технологии, соединяются в единое неразделимое целое посредством межэлементных соединений или соединительных кабелей на одной изолирующей подложке (стекло, керамика и т.д.). Такие схемы могут также содержать дискретные компоненты; iii) многокристальные интегральные схемы, состоящие из двух или более соединенных между собой монолитных интегральных схем, неразделимо объединенных в единое целое, расположенных или не расположенных на одной или нескольких изолирующих подложках, имеющие или не имеющие рамки с выводами, но не содержащие никаких других активных или пассивных элементов. |
|
![]() |
Ответить с цитированием |
Старожил
Регистрация: 05.09.2012
Сообщений: 463
Благодарности:
отдано: 100
получено: 28/27
|
08.10.2014, 09:52
#19
к 84 гр.
9А. Примечания 8а и 8б к группе 85 также применимы к терминам "полупроводниковые приборы" и "электронные интегральные схемы", соответственно, как используемым в данном примечании и в товарной позиции 8486. Однако в данном примечании и в товарной позиции 8486 термин "полупроводниковые приборы" также распространяется на фоточувствительные полупроводниковые приборы и светоизлучающие диоды. |
![]() |
Ответить с цитированием |
Поблагодарили: |
Равный
Регистрация: 13.01.2012
Сообщений: 8,573
Благодарности:
отдано: 299
получено: 1,754/1,192
|
08.10.2014, 10:08
#20
Цитата
( MDEN » )
Вы бы еще про выращивание кристаллов по методу Чохральского рассказали. При чем тут осаждение эпитаксиальных пленок, если речь шла о пайке? |
|
__________________
Павел Андреевич, Вы шпион?© |
||
![]() |
Ответить с цитированием |